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| 分辨率 | 高 |
| 重量 | 5000g |
| 品牌 | 霍爾德電子 |
| 貨號 | HD-FT50UV |
| 電源電壓 | 220V±20V50HzAC/ |
| 型號 | HD-FT50UV |
| 測量范圍 | 20nm~50μm |
| 規(guī)格 | 臺 |
| 加工定制 | 否 |
| 外形尺寸 | 見詳情 |
| 測量精度 | 0.05nm |
半導(dǎo)體膜厚測試儀是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測量設(shè)備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米， 每秒可測100次，重復(fù)測量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強(qiáng)，在振動或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。
半導(dǎo)體膜厚測試儀應(yīng)用領(lǐng)域
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。
半導(dǎo)體膜厚測試儀測試原理
反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產(chǎn)生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息，設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光，經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。
半導(dǎo)體膜厚測試儀產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 精準(zhǔn)測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm，滿足精密檢測需求；
2. 高速采樣： 采樣速度100Hz，適配產(chǎn)線快速檢測，提升測量效率；
3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；
4. 強(qiáng)抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法，復(fù)雜環(huán)境下測量穩(wěn)定；
5. 靈活易適配：支持自定義膜結(jié)構(gòu)測量，設(shè)備小巧易安裝，配套軟件及二次開發(fā)包，適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線多場景。
半導(dǎo)體膜厚測試儀技術(shù)參數(shù)
| 型號 | HD-FT50UV | HD-FT50NIR |
| 建議工作距離 | 非聚焦光束，安裝距離5至10mm | 安裝側(cè)面出光附加鏡時：34.5mm±2mm； 軸向出光時：55mm±2mm； |
| 測量角度 | ±10° | ±5° |
| 光斑類型 | 彌散光斑；在10mm安裝距離時，光斑直徑約為4mm； | 聚焦光斑；約200μm |
| 探頭外徑*長度 | Φ6.35*3200mm3 | Φ20*73mm |
| 探頭重量 | 190g | 108g（探頭）、49g（附加鏡） |
| 光源類型 | 氘鹵光源 | 鹵素光源 |
| 波長范圍 | 190-1100nm | 400-1100nm；1000-1700nm |
| 測厚范圍 | 約20nm~50μm（折射率1.5時） | 約50nm~50μm（折射率1.5時） |
| 適配探頭 | UV-VIS | VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標(biāo)配其一） |
| 可連探頭數(shù)量 | 1 | |
| 探頭防護(hù)等級 | IP40 | |
| 重復(fù)精度 | 0.05nm | |
| 準(zhǔn)確度 | <±1nm或±0.3%（取較大值） | |
| 采樣頻率 | Max.100Hz（視求解參數(shù)復(fù)雜度而定） | |
| 測控軟件 | 專用上位機(jī)軟件 | |
| 電源電壓 | 220V±20V50HzAC/ | |
| 功率 | 50W | |
| 工作溫度 | -10至+40℃ | |
| 相對濕度 | 20%至85%RH（無冷凝） | |
| 控制器重量 | 約5000g | |
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